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Mitte Juli verkündete ASML, dass man das erste Produktionssystem für High-NA EUV, Twinscan EXE:5200B, ausgeliefert habe. Der Kunde wurde nicht genannt. Die ersten Twinscan-EXE:5200-Testsysteme für diese Belichtung gingen bereits an das imec, Intel und wohl auch TSMC.
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