Intel Foundry und ASML: High-NA-EUV in der Massenfertigung und Weg hin zu 6x12"-Masken

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Auf der "SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography"-Konferenz in dieser Woche werden Intel Foundry und ASML über den Einsatz von High-NA EUV in der Massenfertigung von Chips referenzieren. Mit Intel 18A hat der Chipriese für einige Lagen der Core-Ultra-3-Prozessoren (Panther Lake) die Belichtung mittels High-NA EUV bereits im Einsatz. Seitens ASML verwendet werden Scanner der TWINSCAN-EXE-5000-Familie.
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