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  • EUV-Lithografie: ASML nutzt stärkere Laser und schießt 300.000 Mal auf Zinntropfen

    Die Herstellung moderner Halbleiterchips mit Milliarden von Transistoren auf kleinstem Raum und bei kleinsten Strukturen ist technisch eine enorme Herausforderung. Die Belichtungssysteme von ASML sind dahingehend branchenweit ungeschlagen, sind aber auch extrem komplex und kosten mehrere hundert Millionen Euro. Für die moderne EUV-Lithografie kommt Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 nm zum Einsatz. Doch dieses Licht wird nicht einfach von... [mehr]


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