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Nanoimprint Lithografie: Japanisches Unternehmen "druckt" im 10-nm-Bereich
In den vergangenen Monaten und Jahren hat sich parallel zur klassischen Belichtungstechnik in der Halbleiterfertigung auch mehr und mehr eine Parallelentwicklung in Richtung Nanoimprint-Technik gezeigt. Dies liegt auch an der enorm gestiegenen Komplexität und den hohen Kosten für die EUV-Belichtung und mit High-NA EUV werden diese Faktoren noch einmal deutlich ansteigen. An der Nanoimprint Lithografie (NIL) arbeiten eine Handvoll an... [mehr]
