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Quantenpunkt-Qubit
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Quantenpunkt-Qubit: High-NA-EUV-Lithografie ermöglicht Abstände von 6 nm
Das imec verkündet die Fertigung eines Qubit-Bausteins, der mittels High-NA-EUV-Lithografie hergestellt wurde. Es handelt sich laut Aussage des Forschungsinstituts um das erste Element im Bereich der Quantencomputer, welches mithilfe der High-NA-EUV-Lithografie gefertigt wurde. Unter den derzeit erforschten Quantenplattformen gelten Silizium-Quantenpunkt-Spin-Qubits als besonders aussichtsreicher Ansatz für eine industrielle... [mehr]